| 申请专利号 |
200510065520.1 |
专利申请日 |
2005.03.02 |
| 名称 |
用于从基材除去含硅残留物的溶剂和使用该溶剂的去除方法 |
公开（公告）号 |
CN1714951 |
| 公开（公告）日 |
2006.01.04 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
气体产品与化学公司 |
| 地址 |
美国宾夕法尼亚州 |
发明（设计）人 |
S·J·韦格尔;S·N·克霍特;R·P·莫里斯-奥斯卡尼安;S·G·梅厄加;J·E·马多加尔;L·塞内卡 |
| 国际申请 |
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国际公布 |
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| 专利代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
关立新;庞立志 |
| 摘要 |
| 在此公开一种用于从基片顶部和背部的至少一部分和/或沉积装置除去含硅残留物的方法。另一方面，本发明提供了一种用于除去残留物的方法，其包括：用去除溶剂处理涂覆基片和/或沉积装置。 |
| 主权项 |
| 1、一种用于从涂覆基片的至少一部分和/或沉积装置除去含硅残留物的方法，该方法包括：用去除溶剂处理涂覆基片和/或沉积装置，该溶剂的沸点在120℃-250℃范围内，并且具有2.5厘泊或更低的粘度。 |
