| 申请专利号 |
200380104822.4 |
专利申请日 |
2003.11.25 |
| 名称 |
污染物质去除方法及装置,以及曝光方法及装置 |
公开（公告）号 |
CN1720110 |
| 公开（公告）日 |
2006.01.11 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
株式会社尼康 |
| 地址 |
日本东京 |
发明（设计）人 |
渡边俊二;滨谷正人;北本达也 |
| 国际申请 |
2003-11-25 PCT/JP2003/014991 |
国际公布 |
2004-06-17 WO2004/050266 日 |
| 专利代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
杜日新 |
| 摘要 |
| 一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。 |
| 主权项 |
| 1、一种污染物质去除方法，其特征在于：包括使用含氢氟酸的腐蚀液，去除附着在光学部件上的污染物质的污染物质去除工序、以及使用水或有机溶剂，将上述腐蚀液从上述光学部件上去除的腐蚀液去除工序。 |
