| 申请专利号 |
200510084304.1 |
专利申请日 |
2005.07.12 |
| 名称 |
清洗方法及用于实施该方法的清洗装置 |
公开（公告）号 |
CN1721091 |
| 公开（公告）日 |
2006.01.18 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
株式会社杰维思 |
| 地址 |
日本国埼玉县 |
发明（设计）人 |
小林芳树;安川雅彦 |
| 国际申请 |
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国际公布 |
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| 专利代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 |
代理人 |
刘激扬 |
| 摘要 |
| 本发明的课题在于可在不加大清洗装置的情况下，确实地去除附着于晶片、玻璃、金属等上的有机物、异物。配备放射性气体生成机构，该机构包括第1加热机构和第2加热机构，该第1加热机构用于对液体加热，生成蒸汽，该第2加热机构用于通过对由第1加热机构生成的蒸汽进一步加热，制造亚临界的放射性气体；气体喷射机构，该气体喷射机构用于将通过上述放射性气体生成机构制造的放射性气体喷射到被清洗物上；清洗水供给机构，该机构用于在被清洗物上形成清洗液的膜，通过放射性气体生成机构，生成亚临界的放射性气体，并且在通过运送机构运送的被清洗物上形成清洗水的膜，将上述放射性气体从该清洗水的膜吹到上述被清洗物上。 |
| 主权项 |
| 1.一种清洗方法，其特征在于对通过对液体进行加热而生成的蒸汽进一步加热，由此，生成亚临界的放射性气体，并且将该已生成的放射性气体吹到被清洗物上。 |
