| 申请专利号 |
200410053371.2 |
专利申请日 |
2004.07.23 |
| 名称 |
在位式光电分析系统测量通道的除污方法及其装置 |
公开（公告）号 |
CN1724182 |
| 公开（公告）日 |
2006.01.25 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
聚光科技(杭州)有限公司 |
| 地址 |
310012浙江省杭州文三路199号创业大厦4楼 |
发明（设计）人 |
王 健;杨 宏;刘 罡;王 静 |
| 国际申请 |
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国际公布 |
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| 专利代理机构 |
杭州杭诚专利事务所有限公司 |
代理人 |
尉伟敏 |
| 摘要 |
| 本发明涉及一种对在位式光电分析系统进行维护的方法及其装置。除污方法包含有下述步骤：a.关闭设置在通道上的根部阀；b.卸下设于根部阀外端的的分析系统测量探头，安装上与之相配的除污装置，使被测环境仍与外界处于隔离状态；c.打开根部阀，操作除污装置，清除堵塞污物；d.清理完毕后，关闭根部阀；e.卸下除污装置，重新装上分析系统测量探头。专用的除污装置，在根部阀外侧设置有除污套筒，其内设置有可经根部阀伸至内侧通道的除污件等结构。因此，密封性能好，可随时除污清堵，实现了不停车除污，显著提高利用率；堵塞物的清除由除污工具的捅戳推挤钻刷等实现，无需清洗剂，不会对设备产生损伤；结构简单、易于组装，操作过程简易、快速，易于实施。 |
| 主权项 |
| 1.一种在位式光电分析系统测量通道的除污方法，涉及到系统的测量探头，以及将其与被测量环境相连接的测量通道，在通道上设有根部阀(3)，其特征在于所述的除污方法包含有下述步骤：a.关闭设置在通道上的根部阀(3)，使被测环境与外界处于隔离状态；b.卸下安装在根部阀外测的分析系统测量探头，安装上与之相配的除污装置(5)；c.打开根部阀，操作除污装置(5)，保持被测环境与外界处于隔离状态，对位于通道里的堵塞污物进行清理；d.清理完毕后，把除污件(11)拉回到根部阀(3)外侧，关闭根部阀(3)；e.卸下除污装置(5)，重新装上分析系统测量探头。 |
