| 申请专利号 |
200510078650.9 |
专利申请日 |
2005.06.21 |
| 名称 |
基板处理装置和基板处理方法 |
公开（公告）号 |
CN1727081 |
| 公开（公告）日 |
2006.02.01 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
大日本网目版制造株式会社 |
| 地址 |
日本京都府京都市 |
发明（设计）人 |
宫胜彦 |
| 国际申请 |
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国际公布 |
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| 专利代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
高龙鑫;王玉双 |
| 摘要 |
| 一种基板处理装置和基板处理方法，在使基板旋转的同时，向基板供给处理液而对基板实施规定处理，能防止处理液向基板中央部的附着，同时使基板周边部的处理宽度均匀而进行处理。与基板(W)上表面对向配置其平面尺寸(D1)是大于或等于基板尺寸(D2)的大小的气体氛围遮断板(9)。在气体氛围遮断板周边部形成可插入喷嘴(6)的、在上下方向上贯通的贯通孔(9e)，通过用喷嘴驱动机构(67)驱动喷嘴，能使喷嘴插入到贯通孔中，并定位在与基板上表面周边部(TR)相对向的对向位置(P1)和从气体氛围遮断板(9)离开的退避位置(P2)。从被定位在对向位置(P1)的喷嘴(6)向基板(W)上表面周边部(TR)供给处理液。 |
| 主权项 |
| 1.一种基板处理装置，在使基板旋转的同时，向上述基板供给处理液而实施规定的处理，其特征是，具有： 保持上述基板的基板保持装置； 使由上述基板保持装置所保持的基板旋转的旋转装置； 向旋转的上述基板的上表面周边部供给上述处理液的喷嘴； 遮断构件，其与上述基板的上表面相对向设置，同时在其周边部具有上述喷嘴可插入的、在上下方向上贯通的贯通孔； 喷嘴驱动机构，其通过驱动上述喷嘴，使上述喷嘴定位在将上述喷嘴插入到上述贯通孔中而与上述基板的上表面周边部相对向的对向位置和从上述遮断构件离开的退避位置， 从被定位在上述对向位置的上述喷嘴向上述基板的上表面周边部供给处理液。 |
