| 申请专利号 |
03805442.6 |
专利申请日 |
2003.01.07 |
| 名称 |
清洁物体的方法 |
公开（公告）号 |
CN1741863 |
| 公开（公告）日 |
2006.03.01 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
普莱克斯技术有限公司 |
| 地址 |
美国康涅狄格州 |
发明（设计）人 |
J·F·比林格哈姆 |
| 国际申请 |
2003-01-07 PCT/US2003/000529 |
国际公布 |
2003-07-17 WO2003/057377 英 |
| 专利代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
韦欣华;段晓玲 |
| 摘要 |
| 一种清洁物体的方法，包括以下步骤：用含有二氧化碳的溶剂流体接触物体，从而使物体上的污染物溶解在溶剂流体中，用不同于二氧化碳的替代流体替换溶剂流体。一方面，在足够阻止溶剂流体中形成第二相的温度和压力下进行替换，并且至少一部分二氧化碳再循环到物体上。另一方面，在用替代气体替换之前，降低溶剂流体的压力。 |
| 主权项 |
| 1、一种清洁晶片污染物的方法，包括以下步骤： a)用包括二氧化碳的溶剂流体接触晶片，从而通过溶剂流体除去晶片上的污染物；和 b)用不同于二氧化碳的替代流体替换溶剂流体，在足够阻止溶剂流体中形成第二相的温度和压力下进行替换，从而使污染物从晶片上分离，由此来清洁晶片。 |
