| 申请专利号 |
200510102833.X |
专利申请日 |
2005.09.13 |
| 名称 |
基板处理方法及基板处理装置 |
公开（公告）号 |
CN1748879 |
| 公开（公告）日 |
2006.03.22 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
大日本网目版制造株式会社 |
| 地址 |
日本京都府 |
发明（设计）人 |
山本悟史 |
| 国际申请 |
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国际公布 |
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| 专利代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
高龙鑫;王玉双 |
| 摘要 |
| 本发明提供一种向基板的表面供给包含有冰微粒的处理液而进行基板的处理时，不会产生处理不均而能均匀处理，在基板上形成的覆膜不会受到损伤的装置。该装置具有：以倾斜姿势支承基板(W)并向水平方向运送的辊式传送器；向基板的主面供给包含有冰微粒的处理液的喷嘴(12)；与基板的表面接触或者靠近而往复移动、在基板的表面上搅拌包含有冰微粒的处理液的平面刷(14)。 |
| 主权项 |
| 1.一种基板处理方法，支承基板并向水平方向运送的同时，向基板的主面供给处理液而处理基板，其特征在于， 将包含有冰微粒的处理液向基板的主面供给，使搅拌构件接触或者接近基板的主面，在基板的主面上搅拌包含有冰微粒的处理液。 |
