| 申请专利号 |
200480004602.9 |
专利申请日 |
2004.02.04 |
| 名称 |
图案化基板之百万赫超音波清洗方法与设备 |
公开（公告）号 |
CN1750892 |
| 公开（公告）日 |
2006.03.22 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
兰姆研究有限公司 |
| 地址 |
美国加利福尼亚州 |
发明（设计）人 |
J·M·柏依;M·瑞夫肯;F·C·瑞德克;R·E·瑞尔;W·尤 |
| 国际申请 |
2004-02-04 PCT/US2004/003179 |
国际公布 |
2004-09-02 WO2004/074931 英 |
| 专利代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
张雪梅;王忠忠 |
| 摘要 |
| 本发明提供一种清洁半导体基板的方法。此方法是以产生声能的方式起始，而此声能是以实质上垂直于半导体基板表面的方向前进。而后，产生沿实质上平行于半导体基板表面的方向前进之声能。每一个方向的声能都能被同时产生或交替产生。本发明也提供清洁半导体基板的系统与设备。 |
| 主权项 |
| 1.一种半导体基板的清洗方法，包含下列操作： a)产生沿实质上垂直于半导体基板表面的方向前进的声能；及 b)产生沿实质上平行于半导体基板表面的方向前进的声能。 |
