| 申请专利号 |
200510114268.9 |
专利申请日 |
2005.10.21 |
| 名称 |
基板处理装置 |
公开（公告）号 |
CN1778478 |
| 公开（公告）日 |
2006.05.31 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
芝浦机械电子株式会社 |
| 地址 |
日本神奈川 |
发明（设计）人 |
末吉秀树;矶明典 |
| 国际申请 |
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国际公布 |
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| 专利代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
沙 捷 |
| 摘要 |
| 本发明提供一种可以不会发生轴心错位地沿处理槽的宽度方向来设置可旋转支撑刷子的两端的一对主轴的处理装置，其是通过设置在处理槽内的清洗装置(11)来处理在处理槽内搬送的基板的处理装置，其中，清洗装置包括：具有在同一垂直面上在水平方向上以规定间隔隔开的第一安装部(17)和第二安装部(18)的机架(12)、使轴线平行而在上下方向上配置的第一上部刷子(32)及第一下部刷子(33)、可旋转地支撑安装在第一安装部和第二安装部上的第一上部刷子的轴向两端部的一对第一主轴(27)、以及可旋转地支撑安装在第一安装部和第二安装部上的第二下部刷子的轴向两端部的一对第二主轴(28)。 |
| 主权项 |
| 1.一种基板的处理装置，其特征在于： 是通过设置在处理槽内的清洗装置来处理在该处理槽内搬送的基板的处理装置，其中， 所述清洗装置包括： 具有在同一垂直面上在水平方向上以规定间隔隔开的第一安装部和第二安装部的机架； 使轴线平行而在上下方向上配置的第一上部刷子及第一下部刷子； 安装在所述第一安装部和第二安装部上且可旋转地支撑所述第一上部刷子的轴向两端部的一对第一主轴；和 安装在所述第一安装部和第二安装部上且可旋转地支撑所述第二下部刷子的轴向两端部的一对第二主轴。 |
