| 申请专利号 |
200510120367.8 |
专利申请日 |
2005.11.11 |
| 名称 |
用于制造半导体器件的干净化装置 |
公开（公告）号 |
CN1792475 |
| 公开（公告）日 |
2006.06.28 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
三星电子株式会社 |
| 地址 |
韩国京畿道 |
发明（设计）人 |
李尚彦;李善鎔;河商录;许东澈 |
| 国际申请 |
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国际公布 |
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| 专利代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯 宇 |
| 摘要 |
| 本发明公开了一种用于净化半导体衬底的表面的干净化装置，所述装置包括：室，包括第一壁和第二壁；支撑构件，包括晶片接收表面；净化构件，用于从放置在所述支撑构件上的衬底的表面去除颗粒；和载气供给构件，用于供给载气和将从所述衬底的表面分离的颗粒传输到所述室的外部，其中，所述室的第一壁包括设置面对所述晶片接收表面的第一部分和与所述第一部分相邻形成且设置来接收部分的载气供给构件的第二部分。 |
| 主权项 |
| 1、一种用于净化半导体衬底的表面的干净化装置，包括： 室，包括第一壁和第二壁； 支撑构件，包括晶片接收表面； 净化构件，用于从放置在所述支撑构件上的衬底的表面去除颗粒；和 载气供给构件，用于供给载气和将从所述衬底的表面分离的颗粒传输到所述室的外部，其中，所述室的第一壁包括设置面对所述晶片接收表面的第一部分和与所述第一部分相邻形成且设置来接收部分的所述载气供给构件的第二部分。 |
