| 申请专利号 |
99813992.0 |
专利申请日 |
1999.11.19 |
| 名称 |
带有可装载的罩的换向线性抛光机 |
公开（公告）号 |
1329533 |
| 公开（公告）日 |
2002.01.02 |
颁证日 |
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| 优先权 |
1998.12.1 US 09/201,928 |
申请（专利权） |
纳托尔公司 |
| 地址 |
美国加利福尼亚 |
发明（设计）人 |
胡马云·塔利赫 |
| 国际申请 |
PCT/US99/27477 1999.11.19 |
国际公布 |
WO00/32356 英 2000.6.8 |
| 专利代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
刘志平 |
| 专利摘要 |
| 本发明针对应用可沿前面与换向运动的垫(6)来抛光半导体晶片(18)表面的方法与设备(2)，在VLSI与ULSI两方面的应用中，特别要求将晶片(18)表面抛光至完善的平度。抛光垫(6)的前向与换向运动给晶片(18)表面提供了优越的平面性与均匀性。此晶片(18)表面在抛光垫(6)作前向与换向运动而对其抛光时压贴到此抛光垫上。在抛光过程中，晶片(18)则由可应用新颖的装卸晶片的方法的晶片罩支承。 |
| 专利主权项 |
| 权利要求书
1.用于抛光半导体晶片表面的化学机械抛光装置，它包括：适用
于支承晶片的晶片罩；以及具有以双向线性运动抛光此晶片表面的垫
的抛光站。 |
