| 申请专利号 |
200480013195.8 |
专利申请日 |
2004.05.13 |
| 名称 |
抛光组合物和抛光方法 |
公开（公告）号 |
CN1788061 |
| 公开（公告）日 |
2006.06.14 |
颁证日 |
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| 优先权 |
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申请（专利权） |
昭和电工株式会社;出口精研工业株式会社 |
| 地址 |
日本东京都 |
发明（设计）人 |
宫田宪彦;安藤顺一郎;汲田哲朗;林良树 |
| 国际申请 |
2004-05-13 PCT/JP2004/006800 |
国际公布 |
2004-11-25 WO2004/101695 英 |
| 专利代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
林柏楠;刘金辉 |
| 摘要 |
| 一种抛光组合物，其包含水、磨料粒、具有抛光促进剂的细碎晶体粉末、为羧基数(n)为20-300的聚羧酸盐或其衍生物的表面活性剂、和其他任选的初级晶体大小在0.005μm-0.07μm范围和表面改性剂。获得了高抛光速率和没有形成表面缺陷的高质量镜面精加工抛光表面。 |
| 主权项 |
| 1.一种抛光组合物，其包含水、磨料粒、抛光促进剂和每分子具有20-300的羧基数(n)的聚羧酸盐或其衍生物。 |
