| 申请（专利）号 |
名称 |
发明人 |
地址 |
| 薄片体的变形修正方法、切断方法、变形修正装置及切断装置 |
200510088572.0 |
富士胶片株式会社 |
日本神奈川县 |
| 防静电薄膜及其制造方法和记录元件 |
200510082449.8 |
富士胶片株式会社 |
日本神奈川县 |
| 一种光热敏微胶囊和含有该光热敏微胶囊的光热敏记录材料 |
200510012744.6 |
河北大学;中国乐凯胶片集团公司 |
071002河北省保定市五四东路88号 |
| 高浓度乙二胺四乙酸铁铵溶液的制备方法 |
200510036415.5 |
广东光华化学厂有限公司;中山大学 |
515021广东省汕头市光华北四路26号 |
| 在光学介质中结合标记 |
200380108324.7 |
光谱系统公司 |
美国罗得岛州 |
| 来自有多个环氧部分的小芯分子的减反射底涂层 |
200380104562.0 |
部鲁尔科学公司 |
美国密苏里州 |
| 光刻胶的去除 |
200380109011.3 |
高级技术材料公司 |
美国康涅狄格州 |
| 卤化银照相光敏材料 |
03825955.9 |
柯尼卡美能达影像株式会社 |
日本东京 |
| 装有镜头的摄影胶片单元的再生产方法 |
200510096644.6 |
富士胶片株式会社 |
日本神奈川县 |
| 装有镜头的摄影胶片单元 |
200510096654.X |
富士胶片株式会社 |
日本神奈川县 |
| 一种用于光敏热显成像材料的脂肪酸银盐的制备方法 |
200510012877.3 |
中国乐凯胶片集团公司 |
071054河北省保定市建设南路1号 |
| 装有镜头的摄影胶片单元 |
200510106751.2 |
富士胶片株式会社 |
日本神奈川县 |
| 使用具有多层ARC的反射掩模在晶片上图案化光刻胶的方法 |
200480005983.2 |
飞思卡尔半导体公司 |
美国得克萨斯 |
| 具有低带电元件污染的颜色调色剂 |
200580000196.3 |
LG化学株式会社 |
韩国首尔 |
| 成像组合物和方法 |
200510065643.5 |
罗姆及海斯电子材料有限公司 |
美国马萨诸塞州 |
| 吸收紫外线的支撑层及包含该支撑层的苯胺印刷元件 |
200510115086.3 |
麦克德米德图像技术有限公司 |
美国佐治亚州 |
| 用于评估光刻中的多次曝光工艺的结果的方法 |
200480012873.9 |
国际商业机器公司 |
美国纽约 |
| 信息记录媒体及其制造方法、以及记录再现方法、光学信息记录再现装置 |
200480014695.3 |
松下电器产业株式会社 |
日本大阪府 |
| 用于高级微电子应用的平面化薄膜及其生产装置和方法 |
200380110394.6 |
霍尼韦尔国际公司 |
美国新泽西州 |
| 照相元件 |
200480015827.4 |
伊斯曼柯达公司 |
美国纽约州 |
| 用于光聚合物印刷版的数字处理的高反射性基底 |
200480016574.2 |
纳普系统股份有限公司 |
美国加利福尼亚州 |
| 可变形彩色照片卤化银材料 |
200380108669.2 |
艾克发照像有限责任公司 |
德国莱沃库森 |
| 含有干涉颜料的成像载体 |
200480021573.7 |
富士胶片公司 |
荷兰蒂尔堡 |
| 给照片嵌入可机读水印的方法和装置 |
200610031217.4 |
湖南雅程科技有限公司 |
410007湖南省长沙市芙蓉区建湘路603号 |
| 包括含有氟氨磺酰的聚合物的负性抗蚀剂组合物 |
200480025489.2 |
国际商业机器公司 |
美国纽约 |
| 卤化银乳剂和卤化银照相感光材料 |
200610091000.2 |
富士胶片株式会社 |
日本神奈川县南足柄市中沼210番地 |
| 一种胶卷 |
200420099009.4 |
张好雨 |
255031山东省淄博市张店区城中小学一年级二班 |
| 胶卷暗盒 |
200420044325.1 |
孙炳芳 |
518000广东省深圳市笋岗西路长城大厦2栋D座301 |
| 一种新型彩色双面打印相纸 |
200420047555.3 |
李汉军 |
100041北京市石景山区金顶街五区11栋807 |
| 影像贴簿 |
200520109119.9 |
昊网通商科技股份有限公司 |
台湾省台北市 |
| 一种覆膜机用的静电传导装置 |
200520101667.7 |
张海荣 |
310019浙江省杭州市江干区九堡镇明珠公寓6栋1单元102 |
