| 申请（专利）号 |
名称 |
发明人 |
地址 |
| 用微波等离子体在热塑性材料容器表面上涂覆涂层的方法和设备 |
200380104400.7 |
西德尔公司 |
法国奥克特维尔-瑟-莫 |
| 旋转式电晕放电低温等离子体源装置 |
200510046582.8 |
王晓臣 |
116024辽宁省大连市甘井子区凌工路2号大连理工大学专利中心转 |
| 气体分配器和包括气体分配器的设备 |
200510082860.5 |
周星工程股份有限公司 |
韩国京畿道 |
| 带电粒子加速器 |
200480001752.4 |
三菱电机株式会社 |
日本东京 |
| 等离子体生成装置、等离子体控制方法和基板制造方法 |
200380106117.8 |
独立行政法人科学技术振兴机构;三宅正司;江部明宪 |
日本埼玉县 |
| 超高速均匀等离子处理系统 |
200510083627.9 |
诺信公司 |
美国俄亥俄州 |
| 托卡马克装置中晕电流的测量方法及装置 |
200510037714.0 |
中国科学院等离子体物理研究所 |
230031安徽省合肥市蜀山湖路350号 |
| 干蚀刻装置以及安装于其上的气孔装置 |
200510092109.3 |
友达光电股份有限公司 |
台湾新竹市 |
| 离子加速器系统 |
200380108571.7 |
泰雷兹电子器件有限公司 |
德国乌尔姆 |
| 离子束直线加速器 |
03825878.1 |
丰达齐奥尼·佩尔·阿德罗特拉皮埃·安克罗吉卡-特拉 |
意大利诺瓦拉市 |
| 中子发生系统 |
200510036950.0 |
张韶英 |
512026广东省韶关市武江北路144号 |
| 脉冲超音速气流喷射装置 |
200480002957.4 |
原子能委员会 |
法国巴黎 |
| 等离子体处理装置和等离子体处理方法 |
200480002531.9 |
东京威力科创股份有限公司 |
日本国东京都 |
| 产生等离子体的电极组件 |
200480003103.8 |
陶氏康宁爱尔兰有限公司 |
爱尔兰科克 |
| 等离子处理装置 |
03801713.X |
积水化学工业株式会社 |
日本大阪 |
| 用于等离子体蚀刻机器的气体分布电极 |
200510108808.2 |
友达光电股份有限公司 |
台湾新竹市 |
| 扩散器重力支撑件 |
200510106396.9 |
应用材料股份有限公司 |
美国加利福尼亚州 |
| 原子束产生装置及其方法 |
200510105757.8 |
广辉电子股份有限公司 |
台湾省桃园县 |
| 大晶粒铌材超导腔及其制造方法 |
200510115793.2 |
赵 夔 |
100080北京市海淀区中关村北二条3号北大技物搂超导实验室 |
| 低电感等离子室的设备及其方法 |
200510113260.0 |
应用材料股份有限公司 |
美国加利福尼亚州 |
| 用于对齐等离子体电弧切割器的诸零件的方法和设备 |
200480009575.4 |
人工发热机有限公司 |
美国新罕布什尔州 |
| 等离子电极构造、等离子源及利用它的等离子处理装置 |
200510125306.0 |
K.C.科技股份有限公司 |
韩国京畿道 |
| 产生低温等离子体的电晕耦合介质阻挡放电装置 |
200510095594.X |
南京航空航天大学 |
210016江苏省南京市御道街29号 |
| 一种实现脉冲电源与等离子体负载间匹配的方法 |
200510047271.3 |
大连理工大学 |
116024辽宁省大连市甘井子区凌工路2号 |
| 一种可旋转的直线电子加速器装置 |
200410009892.8 |
清华同方威视技术股份有限公司 |
100083北京市清华同方科技广场A座2907 |
| 用于形成等离子体的设备和方法 |
200480011682.0 |
英国氧气集团有限公司 |
英国英格兰 |
| 一种冷原子束产生方法及其装置 |
200410096603.2 |
清华大学 |
100084北京市100084-82号 |
| 级联源以及用于控制级联源的方法 |
200480013795.4 |
OTB集团有限公司 |
荷兰艾恩德霍芬 |
| 光学分离法的方法和设备 |
200480013395.3 |
芝加哥大学 |
美国伊利诺斯州 |
| 等离子体处理设备 |
200510130190.X |
爱德牌工程有限公司 |
韩国京畿道 |
| 用于热交换器的非晶质碳层 |
200480015652.7 |
普莱克斯S.T.技术有限公司 |
美国康涅狄格州 |
| 一种原子芯片用原子束发生方法及其装置 |
200510056940.3 |
清华大学 |
100084北京市100084-82号 |
| 限界等离子体和增强流动导通性的方法和装置 |
200610003231.3 |
应用材料公司 |
美国加利福尼亚州 |
| 等离子加工设备 |
200610003218.8 |
爱德牌工程有限公司 |
韩国京畿道 |
| 改善等离子体均匀性和减少器件损伤的等离子体反应室 |
200610003026.7 |
应用材料公司 |
美国加利福尼亚州 |
| 等离子反应器顶置源功率电极 |
200610001547.9 |
应用材料公司 |
美国加利福尼亚州 |
| 等离子加工设备 |
200610003211.6 |
爱德牌工程有限公司 |
韩国京畿道 |
| 基于缩放通道结构的大气压放电冷等离子体发生器及阵列 |
200610011363.0 |
清华大学 |
100084北京市100084-82信箱 |
| 大气压射频放电高速冷等离子体阵列发生器 |
200610011364.5 |
清华大学 |
100084北京市100084-82信箱 |
| 等离子发生装置 |
200610037708.X |
李 衎 |
230022安徽省合肥市屯溪路301号12幢404室 |
| 离子源设备和方法 |
200510131760.7 |
通用电气公司 |
美国纽约州 |
| 用于等离子体处理装置的侧RF线圈和侧加热器 |
200610007344.0 |
应用材料公司 |
美国加利福尼亚州 |
| 一种大气压介质阻挡辉光放电等离子体发生方法及装置 |
200610065769.7 |
中国科学院物理研究所 |
100080北京市海淀区中关村南三街8号 |
| 等离子体产生装置 |
200610008302.9 |
周星工程股份有限公司 |
韩国京畿道 |
| 等离子处理设备及其制作方法 |
200480019798.9 |
积水化学工业株式会社 |
日本大阪 |
| 等离子处理装置和电极结构 |
200480020800.4 |
积水化学工业株式会社 |
日本大阪 |
| 一种供给高频等离子火焰气体流的灯具 |
200610076024.0 |
中国建筑材料科学研究总院 |
100024北京市管庄东里1号 |
| 一种同轴型低温等离子体物料处理器 |
200510011398.X |
中国科学院电工研究所 |
100080北京市海淀区中关村北二条6号 |
| 等离子装置和通过其制造光纤预制件的装置 |
200510118728.5 |
三星电子株式会社 |
韩国京畿道 |
| 真空等离子体发生器 |
200610058962.8 |
许廷格电子有限及两合公司 |
德国弗赖堡 |
| 等离子处理方法以及装置 |
200480022737.8 |
积水化学工业株式会社 |
日本大阪 |
| 气体注射器和包含气体注射器的装置 |
200610067029.7 |
周星工程股份有限公司 |
韩国京畿道 |
| 半导体等离子处理设备及方法 |
200610001645.2 |
细美事有限公司 |
韩国忠清南道 |
| 等离子体处理装置和等离子体处理方法 |
200610066499.1 |
东京毅力科创株式会社 |
日本国东京都 |
| 等离子体处理装置和等离子体处理方法 |
200610067101.6 |
东京毅力科创株式会社 |
日本国东京都 |
| 等离子体处理装置 |
200610073360.X |
东京毅力科创株式会社 |
日本东京 |
| 一种非平衡等离子体产生方法及产生装置 |
200510064337.X |
中国科学院力学研究所 |
100080北京市海淀区北四环西路15号 |
| 用于静电卡盘的信号传输装置 |
200510126443.6 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |
| 等离子体处理装置、狭缝天线和等离子体处理方法 |
200610065521.0 |
东京毅力科创株式会社 |
日本东京 |
| 一种等离子体反应室控制系统组装箱 |
200510126338.2 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |
| 一种刻蚀设备的射频起辉控制方法 |
200510126351.8 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |
| 等离子体刻蚀装置 |
200510126341.4 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |
| 一种等离子体激励方法 |
200510126395.0 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |
| 多螺线管等离子体源 |
200510126397.X |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 |
| 基片电极调谐型射频感性耦合等离子体源 |
200610200528.9 |
大连理工大学 |
116024辽宁大连甘井子区凌工路2号 |
| 场反转配置中的受控聚变和直接能量转换 |
200610094539.3 |
加州大学评议会;佛罗里达大学研究基金会 |
美国加利福尼亚州 |
| 控制电子回旋共振(RCE)等离子体中电子温度的设备 |
200480031874.8 |
原子能委员会 |
法国巴黎 |
| 便携式等离子束发生器 |
200610028868.8 |
上海波宝仟赫科技有限公司 |
201206上海市浦东新区金港路501号高科工业城 |
| 等离子体处理装置 |
200610084697.0 |
日本碍子株式会社 |
日本爱知县 |
| 中性粒子束处理设备 |
200480034993.9 |
韩国基础科学支援研究院;希姆科技有限公司 |
韩国大田 |
| 可旋转的直线电子加速器装置 |
200420009907.6 |
清华同方威视技术股份有限公司 |
100083北京市清华同方科技广场A座2907 |
| 工业用电子加速器的扫描盒 |
200420110679.1 |
中国科学院上海应用物理研究所 |
201800上海市嘉定区嘉罗公路2019号 |
| 电子加速器钛箔更换装置 |
200420110680.4 |
中国科学院上海应用物理研究所 |
201800上海市嘉定区嘉罗公路2019号 |
| 电感耦合等离子体装置 |
200520001650.4 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 |
| 带有凹台的切割喷嘴 |
200520001468.9 |
张伯勤 |
200122江苏省常州市戚厂工房西九区224号 |
| 用于变频式等离子发生装置的电路 |
200520022832.X |
中国科学院化学研究所 |
100080北京市海淀区中关村北一街2号 |
| 远距等离子体反应器的制程气体旁通装置 |
200520004589.9 |
应用材料股份有限公司 |
美国加利福尼亚州 |
| 电感耦合等离子体装置 |
200520001643.4 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 |
| 同轴线激励的隐身等离子天线 |
200420079921.3 |
南京理工大学 |
210094江苏省南京市孝陵卫200号 |
| 电子传感加速器 |
200520089088.5 |
宋益民 |
116032辽宁省大连市甘井子区石油58楼1-2号 |
